控制算法的優(yōu)化，實現(xiàn)溫度的實
時監(jiān)控，提升良品率
工藝介紹
在高溫環(huán)境中，由于化學(xué)氣相沉積（CVD）的涂層與晶圓的膨脹率不同，容易產(chǎn)生局部形變，形變則會產(chǎn)生應(yīng)力，在多層的反復(fù)加工中應(yīng)力會越來越大，＊終導(dǎo)致晶圓損壞報廢。
因此化學(xué)氣相沉積（CVD）鍍膜的細分工位通常使用激光退火的方式來消除應(yīng)力，＊后通過應(yīng)力檢測機確認消除效果，以此形成應(yīng)力把控的閉環(huán)。
設(shè)備前端模塊（EFEM）將晶圓送入測量腔內(nèi)，隨后晶圓經(jīng)翻轉(zhuǎn)運輸至干涉儀的測量視野范圍中檢測形變量，通過應(yīng)力計算判定退火品質(zhì)后，再翻轉(zhuǎn)運輸至設(shè)備前端模塊（EFEM）進行OK/NG的分類。
課題
1、如何＊＊地采集實時溫度
目前時域中常見的濾波方式，平均值（AVE）方式穩(wěn)定性好，可抗干擾差；中位值（MED）方式抗干擾好，可穩(wěn)定性差，在輸入干擾較大的情況下，用以上任意一種濾波難以＊＊獲取到實時的溫度值。
2、如何快速響應(yīng)細微的溫度變化趨勢？
解決方案
1、經(jīng)驗分布統(tǒng)計+專業(yè)的建模計算，推算批量數(shù)據(jù)
通過有限的溫度采樣值，例如中心的基準溫度值、變化趨勢、判定區(qū)間，并使用大數(shù)據(jù)仿真確定了更為合適的RMS濾波算法，＊后經(jīng)過經(jīng)驗分布函數(shù)推算/模擬出大量的實時溫度數(shù)據(jù)。
2、通過數(shù)學(xué)期望算法，實時估算基準值
首先建立數(shù)學(xué)期望模型，然后采集開始檢測的溫度值（過濾后），＊后通過一系列的推算，在動態(tài)測量中預(yù)估出基準溫度值。
控制系統(tǒng)
實現(xiàn)價值
1、精度
濾波后的實時溫度與溫度傳感器示數(shù)一致，波動合理，抗干擾性強
2、效率
溫度變化感知靈敏度提升1倍，響應(yīng)速度提升15%。
【經(jīng)營層】
■ 在半導(dǎo)體（SEMI）良好的發(fā)展前景下，快速應(yīng)對市場變化，通過先進的算法解決晶圓易損壞報廢的行業(yè)課題，大幅升級設(shè)備性能，助力打造業(yè)內(nèi)Top競爭力。
【管理層】
■ 晶圓沉積工藝品質(zhì)的提升，完全建立在控制系統(tǒng)與程序的優(yōu)化，無需更改機械結(jié)構(gòu)和運動時間，導(dǎo)入時間更快且成本更低。
■ 歐姆龍機械自動化控制器NJ/NX系列，可實現(xiàn)現(xiàn)場生產(chǎn)數(shù)據(jù)的采集、存儲、分析，改善管理課題，提高生產(chǎn)效率。
【工程師層】
■ 通過濾波解決溫度課題，節(jié)省了兩周的開發(fā)時間。
■ 大量的專業(yè)的建模計算模擬運用大幅度提升了調(diào)試效率。
